[发明专利]提高等离子体离子注入机机台产能的方法及设备

摘要

本发明提供一种提高等离子体离子注入机机台产能的方法及设备，其中该方法包括步骤S1、将预抽真空室一、传送室及处理室一通入工艺气体，再打开预抽真空室一与传送室之间的隔离阀一；S2、将晶圆从预抽真空室一，穿过隔离阀一传入传送室；S3、打开传送室与处理室一之间的隔离阀二；S4、将晶圆从传送室，穿过隔离阀二传入处理室一；S5、关闭传送室与处理室一之间的隔离阀二；S6、对处理室一内的晶圆用工艺气体进行等离子体离子注入处理；S7、重新打开传送室与处理室一之间的隔离阀二；S8、将晶圆从处理室一传回传送室；S9、再将晶圆从传送室传回预抽真空室一。本发明通过对设备操作方法及工艺的改进，节省了工艺时间，可以提高机台产能约30％。

主权项

1.一种提高等离子体离子注入机机台产能的方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1、提供一种等离子体注入机设备，所述等离子体注入机设备包括：预抽真空室、传送室和处理室，所述预抽真空室包括预抽真空室一；所述传送室设置于所述预抽真空室一的一侧，所述预抽真空室一与所述传送室间设有隔离阀一；所述处理室设置于所述传送室相对于所述预抽真空室一的另一侧，所述处理室包含处理室一；所述传送室与所述处理室一间设有隔离阀二；所述等离子体注入机设备还包括加气装置，所述加气装置至少连接于所述传送室和所述预抽真空室的任一者；S1步骤包括：所述预抽真空室一内载入有晶圆，再向所述预抽真空室一、所述传送室及所述处理室一中通入工艺气体，使得所述预抽真空室一、所述传送室及所述处理室一形成一个充入所述工艺气体且与外部隔绝的封闭空间，再打开所述预抽真空室一与所述传送室之间的所述隔离阀一；/nS2、将所述晶圆从所述预抽真空室一，穿过所述隔离阀一传入所述传送室；/nS3、打开所述传送室与所述处理室一之间的所述隔离阀二；/nS4、将所述晶圆从所述传送室，穿过所述隔离阀二传入所述处理室一；/nS5、关闭所述传送室与所述处理室一之间的所述隔离阀二；/nS6、对所述处理室一内的所述晶圆用所述工艺气体进行等离子体离子注入处理；/nS7、重新打开所述传送室与所述处理室一之间的所述隔离阀二；/nS8、将经过等离子体注入处理后的所述晶圆从所述处理室一传回所述传送室；/nS9、再将经过等离子体注入处理后的所述晶圆从所述传送室传回所述预抽真空室一；/n其中，前述步骤S2至前述步骤S9的过程中，所述预抽真空室一与所述传送室仍保持充入所述工艺气体的一个或一个以上的封闭空间。/n