[发明专利]立体电极的制备方法有效
| 申请号： | 201810582558.3 | 申请日： | 2018-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN108873532B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 张霞;刘刚 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/137 | 分类号： | G02F1/137;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种立体电极的制备方法，通过使用石墨烯/全氢聚硅氮烷有机溶液，采用溶液涂布方式，一次成型形成立体电极，相对于现有技术的立体电极，简化了工艺制程，缩短工艺时间，有利于降低成本，将该方法应用于显示面板内部制作立体电极，能够提高面板内部电场渗透率，提高穿透率，降低驱动电压。 | ||
| 搜索关键词： | 立体 电极 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种立体电极的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、提供一基板(1)，对所述基板(1)的一侧进行亲水处理，使得所述基板(1)的一侧具有亲水特性；步骤S2、提供导电混合溶液，所述导电混合溶液为石墨烯和全氢聚硅氮烷的混合溶液；步骤S3、在所述基板(1)具有亲水特性的一侧涂布所述导电混合溶液以形成导电溶液层(2)；步骤S4、对所述导电溶液层(2)依次进行预烘烤与硬烤，得到透明导电膜；所述透明导电膜包括位于所述基板(1)上的二氧化硅薄膜(21)及位于所述二氧化硅薄膜(21)远离所述基板(1)一侧的石墨烯薄膜(22)；步骤S5、对所述透明导电膜进行图案化处理，得到数个间隔设置的叠层的立体电极(3)。
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