[发明专利]一种聚丙烯基自清洁材料及其制备方法

摘要

该发明涉及一种聚丙烯基自清洁材料，包括以下原料组分：改性聚丙烯和氟化改性纳米二氧化硅，改性聚丙烯由聚丙烯、二氧化硅改性介孔二氧化钛、聚偏氟乙烯粉末、Basionics LQ01和氟化硅油反应制得，二氧化硅改性介孔二氧化钛由介孔二氧化钛、硅酸四乙酯、氨水、乙醇和二丙二醇二甲醚反应制得，氟化硅油由羟基硅油JF‑M30‑203、氢氟酸、甲苯和苯反应制得，氟化改性纳米二氧化硅由硅酸钠、三氧化二铁、碳和氟化钠反应制得。该发明具有优异的自清洁性能。

主权项

1.一种聚丙烯基自清洁材料的制备方法，其特征在于：包括以下原料组分：改性聚丙烯和氟化改性纳米二氧化硅，所述的改性聚丙烯和氟化改性纳米二氧化硅的质量份数比为100：26～35，其中，所述的改性聚丙烯由聚丙烯、二氧化硅改性介孔二氧化钛、聚偏氟乙烯粉末、Basionics LQ01和氟化硅油反应制得，所述的聚丙烯、二氧化硅改性介孔二氧化钛、聚偏氟乙烯粉末、Basionics LQ01和氟化硅油的质量份数比为85：25～37：15～26：0.2～1：12～19，所述的二氧化硅改性介孔二氧化钛由介孔二氧化钛、硅酸四乙酯、氨水、乙醇和二丙二醇二甲醚反应制得，所述的介孔二氧化钛、硅酸四乙酯、氨水、乙醇和二丙二醇二甲醚的质量份数比为50：27～36：27～41：65～73：19～34，所述的氟化硅油由羟基硅油JF‑M30‑203、氢氟酸、甲苯和苯反应制得，所述的羟基硅油JF‑M30‑203、氢氟酸、甲苯和苯的质量份数比为30：25～33：75～92：56～75，所述的氟化改性纳米二氧化硅由硅酸钠、三氧化二铁、碳和氟化钠反应制得，所述的硅酸钠、三氧化二铁、碳和氟化钠的质量份数比为30：39～47：21～40：19～25。