[发明专利]一种晶圆级光学元件及其制备方法有效
| 申请号： | 201810597451.6 | 申请日： | 2018-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN108873119B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 李凡月;雷玫;肖艳芬 | 申请（专利权）人： | 华天慧创科技（西安）有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B5/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李鹏威 |
| 地址： | 710018 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶圆级光学元件，包括至少一个光学元件模块，所述光学元件模块包括基板和在基板上形成的若干个光学元件，各光学元件具有透光区和非透光区，非透光区包括第一阻光层和第二阻光层，第一阻光层位于基板和光学元件之间，第二阻光层位于不接触基板的光学元件表面，第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。利用光刻技术设置尺寸精度高的第一阻光层，避免了现有技术中阻光层大面积覆盖基板，克服了阻光层与助黏剂大面积接触而导致的结合力差的缺点，提高了晶圆级光学元件的可靠性；同时，由于第二阻光层的制备方法对尺寸的精度要求低，使得整个光学元件对非透光区尺寸精度要求容差变大。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶圆级 光学 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆级光学元件，包括至少一个光学元件模块，所述光学元件模块包括基板和在基板上形成的若干个光学元件，各光学元件具有透光区和非透光区，非透光区环绕透光区周围，非透光区包括第一阻光层和第二阻光层，第一阻光层位于基板和光学元件之间，第二阻光层位于不接触基板的光学元件表面，非透光区中的第一阻光层与其所处光学元件的透光区相邻，第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。
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