[发明专利]微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法有效
| 申请号： | 201810601158.2 | 申请日： | 2018-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN110595848B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 刘通;黄增立;许蕾蕾;赵弇斐;丁孙安 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;黄进 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法，其包括在聚焦离子束‑扫描电镜双束系统中进行的以下工艺：选取待测的微米尺寸量级的样品颗粒；应用离子束沉积工艺在所述样品颗粒的外表面沉积第一材料，形成包覆所述样品颗粒的保护层；将包覆有保护层的所述样品颗粒焊接到样品载网上；应用离子束切割工艺对包覆有保护层的所述样品颗粒进行切割，在所述样品载网上形成厚度为纳米尺寸量级的测试样品。该方法可以简化微米级颗粒透射电子显微镜样品的制样过程，提升了制样速度，并且提高了制样的成功率。 | ||
| 搜索关键词： | 微米 颗粒 透射 电子显微镜 样品 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法，其特征在于，包括在聚焦离子束-扫描电镜双束系统中进行的以下工艺：/n选取待测的微米尺寸量级的样品颗粒；/n应用离子束沉积工艺在所述样品颗粒的外表面沉积第一材料，形成包覆所述样品颗粒的保护层；/n将包覆有保护层的所述样品颗粒焊接到样品载网上；/n应用离子束切割工艺对包覆有保护层的所述样品颗粒进行切割，在所述样品载网上形成厚度为纳米尺寸量级的测试样品。/n
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