[发明专利]一种应用于薄膜晶体管线路的无氟铜钼蚀刻液在审

专利信息
申请号: 201810602238.X 申请日: 2018-06-12
公开(公告)号: CN108893741A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 马帅帅;许澎;叶招莲;傅小飞;宋亚萍 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F1/26
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 张福敏
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种应用于薄膜晶体管线路的无氟铜钼蚀刻液,由下列组分按质量比例在室温下混合配制而成:30~70份的过氧化氢、0.1~10份的无机酸、0.5~20份的有机酸、0.1~30份的有机碱、0.1~2份的刻蚀稳定剂以及余量水。发明的铜钼蚀刻液无氟,对铜钼层蚀刻均匀、速率适中且减小了废液处理成本以及处理难度。
搜索关键词: 铜钼 蚀刻液 薄膜晶体管 蚀刻 废液处理成本 过氧化氢 混合配制 稳定剂 无机酸 有机碱 有机酸 减小 刻蚀 应用
【主权项】:
1.一种应用于薄膜晶体管线路的无氟铜钼蚀刻液,其特征在于,由下列组分按质量比例在室温下混合配制而成:30~70份的过氧化氢、0.1~10份的无机酸、0.5~20份的有机酸、0.1~30份的有机碱、0.1~2份的刻蚀稳定剂以及余量水。
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