[发明专利]一种半导体光刻板清洗生产系统

摘要

本发明一种半导体光刻板清洗生产系统，其特征在于，该生产系统包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置、第一粘尘机构、翻转机构、第三输送滚轮装置、第二清洗装置、第二直线移动抓取机构、第四输送滚轮装置、第二粘尘机构、第二定位顶升输送滚轮装置、第二旋转抓取装置和卸料机构；涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板清洗生产系统。该生产系统采用自动化进料和清洗，并进行双面清洗，提高了清洗的洁净度自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

主权项

1.一种半导体光刻板清洗生产系统，该生产系统包括外罩机架组件，其特征在于，该生产系统还包括依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置、第一粘尘机构、翻转机构、第三输送滚轮装置、第二清洗装置、第二直线移动抓取机构、第四输送滚轮装置、第二粘尘机构、第二定位顶升输送滚轮装置、第二旋转抓取装置和卸料机构；所述的上料机构上的光刻板通过第一旋转抓取装置放置至第一定位顶升输送滚轮装置，第一定位顶升输送滚轮装置连接第一输送滚轮装置，第一输送滚轮装置上的光刻板通过第一直线移动抓取机构放置至第一清洗装置并由第一直线移动抓取机构取出放置至第二输送滚轮装置，第二输送滚轮装置连接第一粘尘机构，第一粘尘机构连接翻转机构，翻转机构连接第三输送滚轮装置，第三输送滚轮装置上的光刻板通过第二直线移动抓取机构放置至第二清洗装置并由第二直线移动抓取机构取出放置至第四输送滚轮装置，第四输送滚轮装置连接第二粘尘机构，第二粘尘机构连接第二定位顶升输送滚轮装置，第二定位顶升输送滚轮装置上的光刻板通过第一旋转抓取装置放置至卸料机构。