[发明专利]一种湿法黑硅硅片的处理方法及湿法黑硅硅片的制备方法在审
| 申请号： | 201810612547.5 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN108807568A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 张艳鹤;金井升;张昕宇;金浩 | 申请（专利权）人： | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/0236 | 分类号： | H01L31/0236;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 豆贝贝;赵青朵 |
| 地址： | 314416 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种湿法黑硅硅片的处理方法及湿法黑硅硅片的制备方法。本发明提供的处理方法包括：在脱金属清洗液中引入电化学体系，在电化学反应下脱除制绒硅片表面的金属颗粒；所述电化学体系以Pt片为工作电极，且以Pt片为负极。采用本发明的处理方法能够大大提高脱金属清洗液溶解脱除金属颗粒的速率，并使金属颗粒脱除彻底、无残留，从而大大提高脱金属环节的效率，显著提升产品产能；另外，本发明的处理方法还能提高脱金属清洗液的利用率、大大减少脱金属废液的排放，从而减少环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 脱金属 硅片 黑硅 湿法 金属颗粒 清洗液 脱除 电化学体系 制备 电化学反应 负极 工作电极 制绒硅片 无残留 产能 废液 溶解 排放 引入 环节 | ||
【主权项】：
1.一种湿法黑硅硅片的处理方法，其特征在于，包括：在脱金属清洗液中引入电化学体系，在电化学反应下脱除制绒硅片表面的金属颗粒；所述电化学体系以Pt片为工作电极，且以Pt片为负极。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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