[发明专利]一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810618364.4 申请日: 2018-06-15
公开(公告)号: CN108796474B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 陶伯万;马寅畅;赵睿鹏;唐浩;苟继涛 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于薄膜制备技术领域,涉及在镀有IBAD‑MgO的金属基带上制备同质外延MgO薄膜的方法,具体为一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法。本发明用低成本的溶液沉积法完全替代了传统高成本工艺复杂PVD方法,且制备的同质外延MgO薄膜表面形貌相比传统方法更优。
搜索关键词: 一种 基于 溶液 同质 外延 mgo 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法,具体步骤如下:步骤1、配置MgO前驱液:在0.1mol/L的氯化镁溶液中加入各占其质量百分比2.5%~3%的二乙醇胺和二乙烯三胺,并混合均匀,得到MgO前驱液;步骤2、将已沉积8‑12nm的IBAD‑MgO的哈氏合金基带装入卷绕盘1中,其一端从卷绕盘1中拉出依次引入转轮1、转轮2、加热装置、转轮3后接入卷绕盘2中;步骤1所得MgO前驱液置于溶液池;转轮2位于溶液池内以调转基带在溶液中的移动方向。步骤3、在加热装置对哈氏合金基带升温至500~600℃的条件下,卷绕轮2以100~150mm/min的速度牵引哈氏合金基带由卷绕轮1到转轮1,然后经过溶液池蘸取溶液并经转轮2调转方向后,垂直进入加热装置,最后被收集至卷绕轮2;即可制得同质外延MgO薄膜。
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