[发明专利]一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法有效
申请号: | 201810618364.4 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN108796474B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 陶伯万;马寅畅;赵睿鹏;唐浩;苟继涛 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 闫树平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于薄膜制备技术领域,涉及在镀有IBAD‑MgO的金属基带上制备同质外延MgO薄膜的方法,具体为一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法。本发明用低成本的溶液沉积法完全替代了传统高成本工艺复杂PVD方法,且制备的同质外延MgO薄膜表面形貌相比传统方法更优。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 溶液 同质 外延 mgo 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于溶液法同质外延MgO薄膜的制备方法,具体步骤如下:步骤1、配置MgO前驱液:在0.1mol/L的氯化镁溶液中加入各占其质量百分比2.5%~3%的二乙醇胺和二乙烯三胺,并混合均匀,得到MgO前驱液;步骤2、将已沉积8‑12nm的IBAD‑MgO的哈氏合金基带装入卷绕盘1中,其一端从卷绕盘1中拉出依次引入转轮1、转轮2、加热装置、转轮3后接入卷绕盘2中;步骤1所得MgO前驱液置于溶液池;转轮2位于溶液池内以调转基带在溶液中的移动方向。步骤3、在加热装置对哈氏合金基带升温至500~600℃的条件下,卷绕轮2以100~150mm/min的速度牵引哈氏合金基带由卷绕轮1到转轮1,然后经过溶液池蘸取溶液并经转轮2调转方向后,垂直进入加热装置,最后被收集至卷绕轮2;即可制得同质外延MgO薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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