[发明专利]一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构及制备方法在审

专利信息
申请号: 201810621757.0 申请日: 2018-06-15
公开(公告)号: CN108707965A 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 左浩;李升;刘宏明 申请(专利权)人: 西安碳星半导体科技有限公司
主分类号: C30B25/18 分类号: C30B25/18;C30B29/04;C23C28/00;C23C14/18;C23C14/35;C23C16/27;C23C16/511
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 刘晓晖
地址: 710000 陕西省西安市国家民用航天产*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构及制备方法,其结构,包括蓝宝石衬底,所述蓝宝石衬底的顶部外壁设置有金属IR层,且金属IR层的顶部外壁设置有纳米晶金刚石成核层,且结构的制备方法,包括在蓝宝石衬底的顶部外壁通过剖光系统进行单面剖光,并通过表面粗糙度检测仪进行粗糙度检测,若蓝宝石衬底单面剖光不合格时则继剖光,直至合格,同时通过吸尘设备吸取废渣,使用磁控溅射方法,在S1中单面剖光后的蓝宝石衬底的外壁淀积一层厚度为100‑300nm的金属IR层。本发明实现大面积单晶金刚石的低成本生长,可用于生长英寸级的大面积单晶金刚石,能够实时检测蓝宝石衬底单面剖光的光滑度。
搜索关键词: 衬底 蓝宝石 顶部外壁 金刚石 制备 大面积单晶 单晶金刚石 异质外延 金属 表面粗糙度检测 粗糙度检测 磁控溅射 实时检测 吸尘设备 层厚度 成核层 低成本 光滑度 光系统 纳米晶 生长 淀积 可用 外壁 废渣
【主权项】:
1.一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构,包括蓝宝石衬底(3),其特征在于,所述蓝宝石衬底(3)的顶部外壁设置有金属IR层(2),且金属IR层(2)的顶部外壁设置有纳米晶金刚石成核层(1)。
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