[发明专利]一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构及制备方法在审
申请号: | 201810621757.0 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN108707965A | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 左浩;李升;刘宏明 | 申请(专利权)人: | 西安碳星半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B25/18 | 分类号: | C30B25/18;C30B29/04;C23C28/00;C23C14/18;C23C14/35;C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 刘晓晖 |
地址: | 710000 陕西省西安市国家民用航天产*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构及制备方法,其结构,包括蓝宝石衬底,所述蓝宝石衬底的顶部外壁设置有金属IR层,且金属IR层的顶部外壁设置有纳米晶金刚石成核层,且结构的制备方法,包括在蓝宝石衬底的顶部外壁通过剖光系统进行单面剖光,并通过表面粗糙度检测仪进行粗糙度检测,若蓝宝石衬底单面剖光不合格时则继剖光,直至合格,同时通过吸尘设备吸取废渣,使用磁控溅射方法,在S1中单面剖光后的蓝宝石衬底的外壁淀积一层厚度为100‑300nm的金属IR层。本发明实现大面积单晶金刚石的低成本生长,可用于生长英寸级的大面积单晶金刚石,能够实时检测蓝宝石衬底单面剖光的光滑度。 | ||
搜索关键词: | 衬底 蓝宝石 顶部外壁 金刚石 制备 大面积单晶 单晶金刚石 异质外延 金属 表面粗糙度检测 粗糙度检测 磁控溅射 实时检测 吸尘设备 层厚度 成核层 低成本 光滑度 光系统 纳米晶 生长 淀积 可用 外壁 废渣 | ||
【主权项】:
1.一种CVD单晶金刚石异质外延衬底的结构,包括蓝宝石衬底(3),其特征在于,所述蓝宝石衬底(3)的顶部外壁设置有金属IR层(2),且金属IR层(2)的顶部外壁设置有纳米晶金刚石成核层(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安碳星半导体科技有限公司,未经西安碳星半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810621757.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。