[发明专利]一种偏视场微光相机遮光罩的设计方法有效
| 申请号： | 201810622423.5 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN108873566B | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 张庭成;刘晓林;李可;李洋;赵健;刘芳芳;阮宁娟 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G03B11/02 | 分类号： | G03B11/02;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 李晶尧 |
| 地址： | 100076 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
一种偏视场微光相机遮光罩的设计方法，涉及航天遥感技术领域；包括如下步骤：步骤(一)、计算偏视场微光相机遮光罩的抑制比δ；步骤(二)、计算偏视场微光相机遮光罩的长度L；步骤(三)、根据偏视场微光相机偏视场的上边界为L |
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| 搜索关键词： | 一种 视场 微光 相机 遮光 设计 方法 | ||
【主权项】：
1.一种偏视场微光相机遮光罩的设计方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤(一)、测量杂散光光源的最小入射角度αMIN，αMIN为偏视场微光相机的杂散光抑制角度；测量得到偏视场微光相机的动态范围的下限LMIN，测量得到杂散光光源的能量ESL，计算偏视场微光相机遮光罩的抑制比δ；步骤(二)、测量得到偏视场微光相机最大对角线半视场ωDia、测量得到第一片透镜入光口径D、测量杂散光在遮光罩内的反射次数n和偏视场微光相机的杂散光抑制角度αMIN，计算偏视场微光相机遮光罩的长度L；n＝1或2；步骤(三)、设定偏视场微光相机偏视场的上边界为LUp1；计算遮光罩的上边界LUp2；步骤(四)、设定偏视场微光相机偏视场的下边界为LDw1；计算遮光罩的下边界LDw2；步骤(五)、根据步骤(三)和步骤(四)的计算结果，完成遮光罩的建模。
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