[发明专利]一种霉菌的密闭式培养方法

摘要

本发明公开了一种霉菌的密闭式培养方法，该方法经过称样、稀释、倾注等步骤，获得琼脂平板，并将所有的琼脂平板按照1个琼脂平板和至少1个无菌空白培养皿的比例，转移至气密装置中，排出多余空气封口后形成密封状态，于28℃恒温培养箱内培养。在所述的密闭式培养方法中，处于密封状态的气密装置，将其内部空间与外界环境隔离，并阻断了物质的交换，从而杜绝琼脂平板上生长的霉菌及其孢子的扩散、以及逃逸至气密装置的外部环境引起环境污染和健康危害。

主权项

1.一种霉菌的密闭式培养方法，其特征在于，包括以下步骤：a． 称取适量样品至均质袋中，补充适量无菌缓冲液,缓冲液与样品的比例为10:1，用拍击式均质器拍打2 min，制成1:10的样品稀释液；b． 取1:10样品稀释液1 mL，注入含有9 mL无菌缓冲液的试管中，漩涡振荡至混匀，制成1:100样品稀释液；按如此10倍递增稀释的方法制备1:1000和1:10000等稀释度的样品稀释液，每递增稀释一次，换用一支无菌吸管；c． 在进行10倍递增稀释的同时，每个稀释度的样品稀释液分别吸取1 mL至2个无菌平皿内；d．分别取1 mL无菌缓冲液加入2个无菌平皿作空白对照；e． 及时将15 mL～20 mL冷却至46 ℃的琼脂培养基,放置于46 ℃±1 ℃恒温水浴箱中保温,倾注平皿，并转动平皿使其混合均匀；待凝固后得到琼脂平板；f．取1个琼脂平板和至少1个无菌空白培养皿，共同转移至气密装置中，排出多余空气并将气密装置封口，形成密封状态；如此将所有的琼脂平板置于气密装置中，于28 ℃恒温培养箱内培养；g． 经过适当的培养时间后，将气密装置自恒温培养箱内取出，观察并计数琼脂平板上的霉菌菌落，之后将气密装置,包括气密装置内部的琼脂平板和空白培养皿,进行灭菌处理；观察和处理过程中不得将气密装置的封口打开，使其始终维持密封状态;所述的无菌缓冲液的种类包括无菌水、无菌生理盐水或无菌磷酸盐缓冲液;所述的琼脂培养基包括孟加拉红培养基、高盐察式培养基或马铃薯葡萄糖琼脂培养基;所述的气密装置包括自封袋、密封盒;所述的适当的培养时间包括不同技术规范中要求的培养3天或5天或7天;所述的灭菌处理包括121 ℃、30 min的高压蒸汽灭菌，或者180 ℃、2 h高温干热灭菌，以及其它可能的灭菌方式。