[发明专利]一种单向抗压可拉脱撞击分离结构有效
申请号: | 201810630551.4 | 申请日: | 2018-06-19 |
公开(公告)号: | CN108820254B | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 彭玉明;耿志卿;王伟;方宝东;王骢 | 申请(专利权)人: | 上海卫星工程研究所 |
主分类号: | B64G1/24 | 分类号: | B64G1/24 |
代理公司: | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人: | 李佳俊;郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种单向抗压可拉脱撞击分离结构,由分离段以及在仪器段表面的8根导轨组成;未分离时,分离段包裹着仪器段,通过内表面设置的4个均匀周向圆环槽与仪器段外壁上存在的半圆环突起贴合,分离段前端紧贴仪器前面的侵彻段;分离段内表面还设有与8根导轨相配合的8个导轨槽,通过导轨和导轨槽的配合来保证侵彻时分离段的姿态。该撞击分离装置具有结构简单、可靠性高,分离精度高,单向抗压的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 单向 抗压 可拉 撞击 分离 结构 | ||
【主权项】:
1.一种单向抗压可拉脱撞击分离结构,其特征在于,由分离段以及在仪器段表面的8根导轨组成;未分离时,分离段包裹着仪器段,通过内表面设置的4个均匀周向圆环槽与仪器段外壁上存在的半圆环突起贴合,分离段前端紧贴仪器前面的侵彻段;分离段内表面还设有与8根导轨相配合的8个导轨槽,通过导轨和导轨槽的配合来保证侵彻时分离段的姿态。
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