[发明专利]蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法有效
| 申请号： | 201810631619.0 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109097774B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 郑钟铉;朴弘植;梁熙星;金奎佈;申贤哲;李秉雄;李相赫;李大雨 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/18;C23F1/26;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 以及 使用 制造 金属 图案 薄膜晶体管 方法 | ||
【主权项】：
1.蚀刻剂组合物，其包括：过硫酸盐；氟化物；基于四个氮的环状化合物；基于一个氮的环状化合物；含硫原子的基于三个氮的环状化合物；和水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司;株式会社东进世美肯，未经三星显示有限公司;株式会社东进世美肯许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810631619.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
