[发明专利]一种用于磁控溅射镀膜的基片台有效

专利信息
申请号: 201810643700.0 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN108611615B 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 佘鹏程;龚俊;彭立波;罗超;范江华 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 周长清;徐好
地址: 410111 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种用于磁控溅射镀膜的基片台,包括内部带控温液体流道的基片座、以及一端与基片座相连的旋转轴组件,所述旋转轴组件包括由内至外依次布置的内轴、外轴以及隔热套管,所述内轴为中空结构并与所述控温液体流道的入口连通,所述外轴与所述内轴之间具有控温液体回流间隙,所述控温液体流道的出口与所述控温液体回流间隙连通,所述隔热套管与所述外轴之间具有间隙、且隔热套管两端与所述外轴密封连接,所述隔热套管上设有抽真空接口。本发明具有有利于减少热量损失,便于控温等优点。
搜索关键词: 一种 用于 磁控溅射 镀膜 基片台
【主权项】:
1.一种用于磁控溅射镀膜的基片台,包括内部带控温液体流道(1)的基片座(2)、以及一端与基片座(2)相连的旋转轴组件(3),其特征在于:所述旋转轴组件(3)包括由内至外依次布置的内轴(31)、外轴(32)以及隔热套管(33),所述内轴(31)为中空结构并与所述控温液体流道(1)的入口连通,所述外轴(32)与所述内轴(31)之间具有控温液体回流间隙(34),所述控温液体流道(1)的出口与所述控温液体回流间隙(34)连通,所述隔热套管(33)与所述外轴(32)之间具有间隙、且隔热套管(33)两端与所述外轴(32)密封连接,所述隔热套管(33)上设有抽真空接口(331)。
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