[发明专利]显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置有效
| 申请号： | 201810644554.3 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN108761893B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 吉强;唐文浩;尹海斌;钟国强;吴伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置，该显示基板包括衬底；黑矩阵图形，所述黑矩阵图形位于所述衬底上，且呈网格状分布；所述黑矩阵图形由遮光纳米微粒形成。该显示基板制作流程简单。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 制备 方法 矩阵 材料 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底；黑矩阵图形，所述黑矩阵图形位于所述衬底上，且呈网格状分布；所述黑矩阵图形由遮光纳米微粒形成。
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