[发明专利]导光体辅助设计方法在审
申请号: | 201810644988.3 | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN108802893A | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 陈振兴;林俊鸿;张嘉和;陈俊杰;林胤廷 | 申请(专利权)人: | 英业达科技有限公司;英业达股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;G02B27/00;G06F17/50 |
代理公司: | 北京先进知识产权代理有限公司 11648 | 代理人: | 张雪竹;王海燕 |
地址: | 201112 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种导光体辅助设计方法,包括:以处理器从数据库中选定发光源;以处理器从数据库中选定导光体的几何形状与折射率、以处理器设定导光体的任两个介质面为入光面及出光面、以处理器计算发光源于入光面的入射点、入射角、反射角及折射角、以及以处理器计算发光源分别于入光面及出光面的能量。通过该方法,可以降低使用者重新修正导光体的时间。 | ||
搜索关键词: | 导光体 处理器 辅助设计 发光源 入光面 数据库 出光面 反射角 介质面 入射点 入射角 折射角 折射率 发光 修正 | ||
【主权项】:
1.一种导光体辅助设计方法,其特征在于,包括:以一处理器从一数据库中选定一发光源;以该处理器从该数据库中选定一导光体的几何形状与折射率;以该处理器设定该导光体的任两个介质面分别为该发光源的一入光面及一出光面;以该处理器计算该发光源于该入光面的一入射点、一入射角、一反射角及一折射角;以及以该处理器计算该发光源分别于该入光面及该出光面的总能量。
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