[发明专利]太阳能电池及其制作方法

摘要

一种太阳能电池的制作方法，包括：在硅基底表面依次形成第一钝化层和第一掺杂层；在第一掺杂层表面形成第一电介质保护层；按预定图案利用激光刻蚀第一电介质保护层；以第一电介质保护层为掩模除去第一钝化层和第一掺杂层；在第一电介质保护层和露出的硅基底层上形成图案化的第二钝化层和第二掺杂层；在形成于硅基底层上的第二掺杂层上形成刻蚀阻挡层；除去形成于第一电介质保护层上的第二钝化层和第二掺杂层；除去第一电介质保护层和刻蚀阻挡层；形成第二电介质保护层；按预定图案利用激光刻蚀第二电介质保护层；最后形成透明导电层和电极。本发明的利用激光刻蚀结合第一电介质保护层替代光刻工艺，在不损失电池效率的前提下，简化工艺流程，具备低成本大规模生产的可行性。

主权项

1.一种太阳能电池的制作方法，其特征在于，所述方法包括：/n在硅基底的第一表面依次形成第一钝化层和第一掺杂层；/n在所述第一掺杂层表面形成第一电介质保护层；/n按预定图案利用激光刻蚀所述第一电介质保护层；/n以图案化的第一电介质保护层为掩模除去所述第一钝化层和所述第一掺杂层露出所述硅基底层；/n在所述图案化的第一电介质保护层和露出的硅基底层上形成图案化的第二钝化层和第二掺杂层；/n在形成于所述硅基底层上的所述第二掺杂层上形成刻蚀阻挡层；/n除去形成于所述图案化的第一电介质保护层上的所述第二钝化层和第二掺杂层；/n除去所述图案化的第一电介质保护层和所述刻蚀阻挡层；/n在图案化的第一掺杂层和第二掺杂层上形成第二电介质保护层；/n按预定图案利用激光刻蚀所述第二电介质保护层；/n以图案化的第二电介质保护层为掩模形成透明导电层；/n在所述透明导电层上形成电极。/n