[发明专利]提升全视场光刻成像均匀性的多目标光源和掩模优化方法有效
| 申请号： | 201810649199.9 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN108693715B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;李铁;孙义钰;盛乃援 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李微微;仇蕾安 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提升全视场光刻成像均匀性的多目标光源和掩模优化方法，将目标函数构造为各视场点图形误差的平均值，从而在优化过程中综合考虑了光刻物镜的全视场偏振像差信息。因此，本发明优化得到的光源和掩模，不只适用于特定视场点的光刻成像，而且适用于全视场光刻成像。对于含有偏振像差的大视场光刻物镜，以上效果有助于提高全视场光刻成像均匀性，保证光刻工艺的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 提升 视场 光刻 成像 均匀 多目标 光源 优化 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提升全视场光刻成像均匀性的多目标光源‑掩模优化方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、初始化光源图形和掩模图形；步骤二、构造优化目标函数D：基于光刻物镜第i个视场点对应的偏振像差PAi，确定第i个视场点对应的成像保真度函数![]()
其中i＝1,2,...,n，n为视场点数量；![]()
为目标图形各像素点的像素值；Z(x,y,PAi)表示考虑偏振像差PAi的情况下，利用光刻成像模型计算的当前光源图形和掩模图形对应的光刻胶成像中各像素点的像素值；将目标函数D构造为光刻物镜各视场点成像保真度函数的平均值，即![]()
步骤三、基于所述优化目标函数D，对光源和掩模进行优化。
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