[发明专利]一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法有效
申请号: | 201810649402.2 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN108828901B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 李艳秋;李恩泽 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李微微;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测技术,通过设计一系列具有傅里叶远场频谱结构简单的标记掩模;用琼斯光瞳的pesudo-zernike展开法表征成像模型中投影物镜的PA,并由标记掩模衍射远场特性简化成像模型;根据离散化的成像模型,推导出成像光强与PA展开系数的二阶灵敏的矩阵,得到以下关系;对上式两边进行傅里叶变换,并同时提取其+1阶频谱信息,得到成像结果傅里叶变换+1阶谱与PA展开系数的二次解析关系;合理改变光源偏振照明方式、调整集成掩模版的位置、曝光区域及成像离焦量等参数,根据上述所得关系,建立二阶超定方程组,最终可通过成像的+1阶谱逆向求解出全视场每一个视场点的PA展开系数,实现光刻投影物镜全视场PA的在线检测。 | ||
搜索关键词: | 全视场 成像模型 展开系数 傅里叶变换 高数值孔径 成像系统 偏振像差 在线检测 二阶 掩模 远场 成像 矩阵 光刻投影物镜 在线检测技术 超定方程组 成像结果 逆向求解 偏振照明 频谱结构 频谱信息 曝光区域 投影物镜 成像光 傅里叶 离焦量 离散化 掩模版 推导 光瞳 视场 衍射 光源 解析 灵敏 两边 | ||
【主权项】:
1.一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、设计成像系统的标记掩模,所述标记掩膜为满足离散化傅里叶远场频谱结构的标记掩模;步骤二、针对成像系统的成像模型的投影物镜部分,采用琼斯光瞳的pesudo‑zernike展开法表征投影物镜部分的偏振像差;然后将步骤一设计的标记掩模衍射远场再代入到成像模型中,得到离散化的成像模型;步骤三、根据步骤二得到的成像模型,获得成像光强与偏振像差展开系数的二阶灵敏矩阵sij,由此将成像模型化简为关于偏振像差的二次型方程:
其中ki和kj为偏振像差展开系数;jmax表示展开阶数;上角标*表示复共轭转置;对所述二次型方程等式两边做傅里叶变换,并同时提取其+1阶频谱信息,得到空间像+1阶谱与偏振像差展开系数的二次解析关系方程:
其中,
表示光强;上角标H表示转置复共轭;a、b、a'和b'表示偏振像差展开系数;当为X偏振照明时,ki和kj分别对应a和b;当为Y偏振照明时,ki和kj分别对应a'和b';
和
分别表示X偏振照明时和Y偏振照明下从傅里叶变换后的二阶灵敏矩阵sij中提取出的+1阶谱灵敏度矩阵;步骤四,所述成像系统分别采用X偏振光源和Y偏振光源照明,获得光强信息;不断变化所述步骤一设计的标记掩模的周期和/或角度,测量得到多组光强信息,然后代入到步骤三建立的二次解析关系方程中,求解得到偏振像差展开系数,进而得到偏振像差。
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