[发明专利]一种介质基片光刻对准标记、对准方法及光刻方法有效
| 申请号： | 201810663301.0 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108828902B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 宋振国;王斌;路波;赵习智 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京捷诚信通专利事务所(普通合伙) 11221 | 代理人： | 董喜 |
| 地址： | 266555 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种介质基片光刻对准标识，所述对准标识为使用激光机加工的“十”字对准标记，加工遍数为1次；“十”字对准标记的横线和竖线的中心具有相对边沿更亮的中心线；“十”字对准标记设置在介质基片边缘。本发明在激光加工介质基片上的“十”字对准标记时只加工1遍，在光刻机的目镜中能形成清晰的中心线，使之与掩模版上“十”字对准标记的中心线对准，提高了薄膜电路的制造精度和一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介质 光刻 对准 标记 方法 | ||
【主权项】：
1.一种介质基片光刻对准标识，其特征在于，所述对准标识为使用激光机加工的“十”字对准标记，加工遍数为1次；“十”字对准标记的横线和竖线的中心具有相对边沿更亮的中心线；“十”字对准标记设置在介质基片边缘。
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