[发明专利]一种脊波导电极开窗的方法有效
| 申请号： | 201810670126.8 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN108847574B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 曲迪;白国人;陈墨;靳春艳;宋学颖 | 申请（专利权）人： | 华慧芯科技（天津）有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/22 | 分类号： | H01S5/22;G03F7/16 |
| 代理公司： | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人： | 蒙建军 |
| 地址： | 300467 天津市滨海新区生态城*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种脊波导电极开窗的方法，包括：步骤：S1、对晶元上沉积的波导层进行刻蚀，形成脊波导结构及脊波导结构两侧的结构；S2、在脊波导结构及脊波导结构两侧结构的上表面生成电解质绝缘层；S3、在电解质绝缘层上涂覆下光刻胶，该下光刻胶的上表面高出脊波导结构的上表面；S4、在下光刻胶的上表面沉积金属介质层；S5、在金属介质层的上表面旋涂上光刻胶，利用掩膜版对脊波导结构上方的上光刻胶进行曝光和显影；S6、去除脊波导结构上方的金属介质层；S7、干法刻蚀去除上光刻胶和下光刻胶层；S8、去除脊波导结构上方的电解质绝缘层；S9、通过lift‑off工艺，去除电解质绝缘层上方的下光刻胶及金属介质层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波导 电极 开窗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种脊波导电极开窗的方法，其特征在于：至少包括如下步骤：S1、对晶元上沉积的波导层进行刻蚀，形成脊波导结构及脊波导结构两侧的结构；S2、在脊波导结构及脊波导结构两侧结构的上表面生成电解质绝缘层；S3、在电解质绝缘层上旋涂下光刻胶，该下光刻胶的上表面高出脊波导结构的上表面；S4、在所述下光刻胶的上表面沉积金属介质层；S5、在所述金属介质层的上表面旋涂上光刻胶，然后利用掩膜版对脊波导结构上方的上光刻胶进行曝光和显影；S6、去除脊波导结构上方的金属介质层；S7、干法刻蚀去除上光刻胶和下光刻胶层；S8、去除脊波导结构上方的电解质绝缘层；S9、通过lift‑off工艺，去除电解质绝缘层上方的下光刻胶及金属介质层。
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