[发明专利]一种等离子处理装置，处理方法

摘要

本发明提供了一种等离子处理装置，等离子处理方法，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔、抽气腔、气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体喷出口的个数为多个，并均匀设置；隔离气体整流杯，用于控制隔离气体的喷出方向，所述处理气体喷出口设置在所述隔离气体整流杯内部；所述等离子处理方法能够在大气环境中进行等离子体处理，能够解决怕空气中氧气、水汽等对处理气体发生反应或对于有害的处理气体，需要对处理气体进行隔离，能够控制隔离气体的流向、喷出等离子体处理气体的流向，进一步提高对处理气体的隔离。

主权项

1.一种等离子处理装置，用于在大气环境中产生等离子体，对处理对象进行清洁，其特征在于，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔，所述等离子体发生腔由石英材料形成，所述等离子体发生腔包括发生腔主体，处理气体进气口，以及处理气体喷出口；等离子体发生线圈，所述等离子体发生线圈以螺旋状设置在等离子体发生腔主体的外壁，并与所述离子体发生腔主体的外壁直接接触，所述等离子体发生线圈的两端分别与射频电源的两个电极连接；抽气腔，所述抽气腔与等离子体发生腔同心筒状设置，所述抽气腔还包括抽气口；气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体喷出口的个数为多个，并均匀设置；隔离气体整流杯，用于控制隔离气体的喷出方向，所述处理气体喷出口设置在所述隔离气体整流杯内部。