[发明专利]一种钇铝石榴石晶体的高效化学机械抛光方法有效
申请号: | 201810675798.8 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN108838745B | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 金洙吉;安润莉;张自力;韩晓龙;康仁科;朱祥龙 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B37/00;B24B37/11;C09G1/02 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 李晓亮;潘迅 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于硬脆材料超精密加工领域,提供一种钇铝石榴石晶体的高效化学机械抛光方法。该方法包含以下步骤:1)室温下,将磨料氧化锆、化学反应试剂氢氧化钠、添加剂加入去离子水中,超声震荡配制化学机械抛光液;2)采用IC1000抛光垫作为化学机械抛光用抛光垫,修整抛光垫;3)选取工艺参数,对钇铝石榴石晶片进行化学机械抛光。通过本发明,可以较高的材料去除率获得低损伤的钇铝石榴石晶片。 | ||
搜索关键词: | 抛光垫 钇铝石榴石晶体 化学机械抛光 钇铝石榴石 高效化学 机械抛光 晶片 化学机械抛光液 磨料 化学反应试剂 材料去除率 超精密加工 超声震荡 氢氧化钠 硬脆材料 低损伤 氧化锆 水中 修整 添加剂 离子 配制 | ||
【主权项】:
1.一种钇铝石榴石晶体的高效化学机械抛光方法,其特征在于,包含以下步骤:第一步,配制化学机械抛光液室温下,将磨料氧化锆、化学反应试剂氢氧化钠、添加剂加入去离子水中,超声震荡后得到化学机械抛光液,所述的添加剂为十二烷基苯磺酸钠、聚甲基丙烯酸纳、异丙醇、聚乙二醇20000的一种或两种以上组合物;化学机械抛光液中,所述的氧化锆浓度为0.04~0.1g/ml,氧化锆粒径为0.03‑1μm;所述的氢氧化钠浓度为0.03~0.07g/ml;所述的十二烷基苯磺酸钠浓度为0.25g/L,聚甲基丙烯酸纳浓度为2g/L,异丙醇浓度为2g/L,聚乙二醇20000浓度为1g/L;第二步,采用IC1000抛光垫作为化学机械抛光用抛光垫,修整抛光垫;第三步,对钇铝石榴石晶体进行化学机械抛光,能够达到2nm/min的材料去除率,加工1小时后获得表面粗糙度Ra小于1nm的YAG晶体表面。
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