[发明专利]具有高Dk和低Df特性的复合式高频基板及制备方法在审

专利信息
申请号: 201810683129.5 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN110662348A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 李建辉;林志铭;杜伯贤;李莺 申请(专利权)人: 昆山雅森电子材料科技有限公司
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03
代理公司: 32312 苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 周雅卿
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有高Dk和低Df特性的复合式高频基板,包括第一铜箔层和芯层,芯层包括若干高分子聚合物薄膜层和若干介电胶层,介电胶层包括第一和第二介电胶层中的至少一种,第一介电胶层是指Dk值6‑30且Df值0.002‑0.020的胶层,第二介电胶层是指Dk值15‑100且Df值0.002‑0.020的胶层,且第二介电胶层的Dk值大于第一介电胶层的Dk值;芯层是指Dk值6‑50且Df值0.002‑0.020的芯层。本发明的激光钻孔工艺更佳、不易有内缩的状况、较低的吸湿性、较高的绝缘性、高尺寸安定性、优异的热稳定性、高Dk及低Df电性更佳;可以使用正常压合参数搭配快压机设备或传压机设备、具有成本优势,具备厚膜制作技术。
搜索关键词: 胶层 介电 芯层 高分子聚合物薄膜 激光钻孔工艺 吸湿性 尺寸安定性 成本优势 高频基板 热稳定性 压机设备 传压机 复合式 绝缘性 铜箔层 电性 厚膜 内缩 压合 搭配 制作
【主权项】:
1.一种具有高Dk和低Df特性的复合式高频基板,其特征在于:包括第一铜箔层和芯层,所述芯层包括若干高分子聚合物薄膜层和若干介电胶层,相邻的高分子聚合物薄膜层与介电胶层叠合,所述第一铜箔层位于所述芯层的最外侧的介电胶层的表面,所述介电胶层包括第一介电胶层和第二介电胶层中的至少一种,所述第一介电胶层是指Dk值6-30且Df值0.002-0.020的胶层,所述第二介电胶层是指Dk值15-100且Df值0.002-0.020的胶层,且所述第二介电胶层的Dk值大于所述第一介电胶层的Dk值;所述芯层是指Dk值6-100且Df值0.002-0.020的芯层;/n所述芯层的总厚度Z符合下式关系式:/nZ=nX+mY+oW/n关系式中,n表示所述高分子聚合物薄膜层的层数;m表示所述第一介电胶层的层数;o表示所述第二介电胶层的层数;X表示所述高分子聚合物薄膜层的厚度,Y表示所述第一介电胶层的厚度,W表示所述第二介电胶层的厚度,且X、Y和W值根据特定Z值而定。/n
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