[发明专利]晶片清洗设备和使用该设备的清洗方法有效
| 申请号： | 201810687730.1 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN109396102B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李在桓 | 申请（专利权）人： | 爱思开矽得荣株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/02;B08B13/00;B08B9/093 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱立鸣 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提出一种晶片清洗设备，包括：清洗箱和清洗单元，清洗单元安装为能够向上或向下运动到清洗箱中，并且构造为将清洗溶液注射到清洗箱的内壁上。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 清洗 设备 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种晶片清洗设备，包括：清洗箱；以及清洗单元，所述清洗单元被安装成能够向上或向下运动到所述清洗箱中，并且构造为将清洗溶液注射到所述清洗箱的内壁上。
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