[发明专利]一种液体传输装置及传输方法在审
| 申请号： | 201810687989.6 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN108899292A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 何军;李涛 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种液体传输装置及传输方法。液体传输装置，用于清洗或刻蚀阵列基板，包括第一支管路,设置有第一监测装置和第一阀门；第二支管路，与第一支路并联设置，设置有第二阀门。本申请通过在第一支管路中设置了监测装置，监测装置可以监测第一支管路的流量，在第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，第一阀门关闭第一支管路，第二阀门开启第二支管路，以使第二支管路继续传输液体。本申请能够根据传输设备中的流量切换传输管路，从而保证基板在制程的连续性，降低操作人员的疲劳强度。 | ||
| 搜索关键词： | 支管路 液体传输装置 监测装置 阀门 申请 传输 传输管路 传输设备 阀门关闭 阀门开启 继续传输 流量切换 阵列基板 支路并联 阈值时 基板 刻蚀 预设 制程 清洗 疲劳 监测 保证 | ||
【主权项】：
1.一种液体传输装置，其特征在于，用于传输液体，所述液体用于清洗或者刻蚀阵列基板，所述液体传输装置至少包括：第一支管路，设置有第一监测装置和第一阀门，所述第一监测装置用于监测所述第一支管路的流量；第二支管路，与所述第一支路并联设置，设置有第二阀门；所述第一阀门用于在所述第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，关闭所述第一支管路；所述第二阀门用于在所述第一阀门关闭时开启所述第二支管路，利用所述第二支管路传输所述液体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
