[发明专利]柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201810692387.X | 申请日: | 2018-06-28 |
公开(公告)号: | CN108823531B | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 汤如俊;朱齐山;苏晓东 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/34 |
代理公司: | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 | 代理人: | 袁丽花 |
地址: | 215104 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法,所述制备方法包括:S1、采用六角铁氧体粉末制备六角铁氧体靶材;S2、提供单晶基片,所述单晶基片作为薄膜制备的基底;S3、使用真空镀膜设备在单晶基片上外延生长六角铁氧体薄膜;S4、采用机械剥离法将单晶基片剥离,得到柔性六角铁氧体薄膜。本发明采用真空镀膜的方法在耐高温的单晶基底上生长高度择优取向的六角铁氧体薄膜,再通过机械法剥离耐高温单晶基片的方法成功制备柔性薄膜;柔性六角铁氧体薄膜具有可弯曲性,弯曲后磁性能基本没有改变,因此对于柔性器件具有潜在价值。 | ||
搜索关键词: | 柔性 六角 铁氧体 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种柔性六角铁氧体薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:S1、采用六角铁氧体粉末制备六角铁氧体靶材;S2、提供单晶基片,所述单晶基片作为薄膜制备的基底;S3、使用真空镀膜设备在单晶基片上外延生长六角铁氧体薄膜;S4、采用机械剥离法将单晶基片剥离,得到柔性六角铁氧体薄膜。
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