[发明专利]一种半导体合成装置和合成方法在审

专利信息
申请号: 201810698427.1 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108531975A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 雷仁贵;肖亚东;谈笑天 申请(专利权)人: 汉能新材料科技有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B28/06;C30B29/42
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 宋丹氢;张天舒
地址: 101407 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种应用于水平布里奇曼法的半导体合成装置,其中,该合成装置包括密闭反应管、第一炉体和第二炉体,其中,第一炉体和第二炉体由中间管道连接,反应管放置在由第一炉体、中间管道、第二炉体共同限定的炉腔中,对应第一炉体和第二炉体分别单独设置温度控制装置,其中,反应管在水平方向的不同位置处布置有多个水平舟容器,多个水平舟容器包括至少一个第一层水平舟容器,在第一层水平舟容器的至少一个上设置有支架装置,在支架装置上叠置一第二层水平舟容器,其中,支架装置设置为支撑所述第二层水平舟容器,并在第一层水平舟容器和第二层水平舟容器之间提供间隙。本发明的装置允许一次制作多个品质优良的晶棒。
搜索关键词: 炉体 合成装置 支架装置 第一层 中间管道 反应管 半导体 温度控制装置 布里奇曼法 单独设置 密闭反应 一次制作 位置处 叠置 晶棒 炉腔 合成 支撑 应用
【主权项】:
1.一种应用于水平布里奇曼法的半导体合成装置,其中,该合成装置包括密闭反应管、第一炉体和第二炉体,其中,所述第一炉体和所述第二炉体由中间管道连接,所述反应管放置在由所述第一炉体、所述中间管道、所述第二炉体共同限定的炉腔中,对应所述第一炉体和第二炉体分别单独设置温度控制装置,其中,所述反应管在水平方向的不同位置处布置有多个水平舟容器,所述多个水平舟容器包括至少一个第一层水平舟容器,在所述第一层水平舟容器的至少一个上设置有支架装置,在所述支架装置上叠置一第二层水平舟容器,其中,所述支架装置设置为支撑所述第二层水平舟容器,并在所述第一层水平舟容器和第二层水平舟容器之间提供间隙。
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