[发明专利]一种原子级厚度石墨烯/氮化硼复合异质薄膜转移方法

摘要

本发明公开了高机械强度、高环境适应性、适合大面积悬浮、原子级厚度的超薄石墨烯/氮化硼复合异质薄膜转移方法，目的是解决传统薄膜转移工艺造成的薄膜与样品基底粘附不紧密、多褶皱、多孔洞问题。技术方案是将薄膜转移至样品基底后首先低温自然去水干燥，避免高热去水，防止薄膜与基底之间的水膜产生气泡；样品控温烘烤升温过程先慢速升温至五十摄氏度附近软烘，然后，继续慢速升温至薄膜支撑高分子材料的玻璃态临界温度附近；样品控温烘烤降温过程慢速降温至室温，不可快速冷却至室温；最后洗去薄膜表面高分子支撑材料。本发明解决了传统薄膜转移工艺造成的薄膜与样品基底粘附不紧密、多褶皱、多孔洞问题，提高薄膜类材料转移成品率。

主权项

1.一种原子级厚度石墨烯/氮化硼复合异质薄膜转移方法，其特征在于包括以下步骤：(1)准备待转移石墨烯/氮化硼(Gra/BN)复合异质薄膜，薄膜表面旋涂一层高分子支撑材料(简称SP)，薄膜漂浮于去离子水中；(2)准备好等待转移Gra/BN复合异质薄膜的样品基底；(3)清洁样品基底，氮气吹干；(4)氧离子处理样品基底表面，去除基底表面残留有机污染，基底由疏水性转变为亲水性；(5)用样品基底从去离子水(DIW)中捞取Gra/BN/SP薄膜或者更多层复合异质薄膜；(6)将捞取了复合异质薄膜的样品基底倾斜静置，薄膜低温自然去水干燥；(7)样品控温烘烤：升温过程中，先慢速升温至五十摄氏度附近软烘；然后，继续慢速升温至薄膜支撑高分子材料的玻璃态临界温度附近；降温过程中，慢速降温至室温，不可快速冷却至室温；(8)去除SP层，转移至低表面张力溶液中中清洗并取出。