[发明专利]航天器在轨分子污染吸附装置在审
| 申请号： | 201810711768.8 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN108889272A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 院小雪;杨东升;臧卫国;王晶虎 | 申请（专利权）人： | 北京卫星环境工程研究所 |
| 主分类号： | B01J20/18 | 分类号： | B01J20/18;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种航天器在轨分子污染吸附装置，包括基底材料和设置在基底材料之上的吸附剂层或吸附剂膜，基底材料为堇青石，沸石分子筛为吸附剂层，其中，沸石分子筛吸附剂层或膜，所述装置用于设置在航天器的表面上并通过沸石分子筛吸附剂层对其表面上的有机分子污染物进行吸附。本发明降低了航天器该区域内的污染水平，从而阻止污染物分子到达航天器敏感表面，实现航天器的污染控制。 | ||
| 搜索关键词： | 航天器 吸附剂层 沸石分子筛 基底材料 分子污染 吸附装置 有机分子污染物 污染物分子 敏感表面 污染控制 污染水平 吸附剂 堇青石 吸附 | ||
【主权项】：
1.航天器在轨分子污染吸附装置，包括基底材料和设置在基底材料之上的吸附剂层，其中，基底材料为堇青石，沸石分子筛为吸附剂层，其中，沸石分子筛吸附剂层通过水热合成方法复合在堇青石基底上，所述装置用于设置在航天器的表面上并通过沸石分子筛吸附剂层对其表面上的有机分子污染物进行吸附。
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