[发明专利]偏振膜的制造方法及制造装置在审
| 申请号： | 201810714192.0 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109212650A | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 武藤清;住田幸司;赵天熙;崔允硕 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/06;B29C55/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供即使曝露在高温环境下也不易收缩且具有优异光学特性的偏振膜的制造方法及制造装置。偏振膜的制造方法包括：利用二色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序；依次使上述染色工序后的上述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于n个(n为2以上的整数)交联浴中而进行交联处理的交联工序；以及对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个(x为n以下的整数)的第x交联浴中浸渍后取出的上述聚乙烯醇系树脂膜，照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上的电磁波的电磁波照射工序，各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量％以上的溶液构成，从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由上述硼化合物的浓度为2.4质量％以下的溶液构成。 | ||
| 搜索关键词： | 交联 聚乙烯醇系树脂膜 偏振膜 浸渍 辐射能量 硼化合物 染色工序 制造装置 制造 电磁波照射 二色性色素 高温环境 光学特性 染色处理 照射波长 电磁波 上游 红外线 曝露 配置 收缩 取出 | ||
【主权项】：
1.一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，其包括：利用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序；使所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜依次浸渍于n个交联浴中而进行交联处理的交联工序，其中，n为2以上的整数；以及对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个的第x交联浴中浸渍后取出的所述聚乙烯醇系树脂膜，照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上的电磁波的电磁波照射工序，其中，x为n以下的整数，各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量％以上的溶液构成，从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由所述硼化合物的浓度为2.4质量％以下的溶液构成。
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