[发明专利]一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法有效
申请号: | 201810715032.8 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN108530494B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 杨政;唐金龙 | 申请(专利权)人: | 宜昌东阳光生化制药有限公司 |
主分类号: | C07H1/00 | 分类号: | C07H1/00;C07H1/06;C07H17/00 |
代理公司: | 宜昌市慧宜专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 42226 | 代理人: | 彭娅 |
地址: | 443300 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于化学技术领域,具体涉及一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法。其主要步骤为:(3R,4R,5S,6R,9R,10S,11S,12R,13R,15R,Z)‑12‑[[3,4,6‑三脱氧‑3‑(二甲氨基)‑β‑D‑木‑已吡喃糖基]氧]‑6‑乙基‑4,5‑二羟基‑10‑[(2,6‑二脱氧‑3‑C‑甲基‑3‑O‑甲基‑a‑L‑核‑已吡喃糖基)氧]‑3,5,9,11,13,15‑六甲基‑7,16‑二氧‑2‑氮杂双环[11.2.1]十六烷‑1‑烯‑8‑酮(化合物Ⅱ)经过酸化重排,精制后得到纯度>99.5%以上的重排杂质R。合成的高纯度阿奇霉素重排杂质R作为成品检测的杂质标准品,有利于加强对该杂质的定位和定性,提高对阿奇霉素原料药的质量控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 霉素 重排 杂质 合成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法,阿奇霉素重排杂质R结构如下:其特征在于,所述阿奇霉素重排杂质R按照以下路线进行合成:主要包含以下两个步骤:1)化合物Ⅱ加入溶剂1,试剂2升温搅拌反应;加水洗涤,分层,取有机层,减压蒸馏回收有机层溶剂1,得杂质粗品;2)精制:将杂质粗品中加入溶剂3重结晶得到阿奇霉素重排杂质R;所述化合物Ⅱ为3R,4R,5S,6R,9R,10S,11S,12R,13R,15R,Z)‑12‑[[3,4,6‑三脱氧‑3‑(二甲氨基)‑β‑D‑木‑已吡喃糖基]氧]‑6‑乙基‑4,5‑二羟基‑10‑[(2,6‑二脱氧‑3‑C‑甲基‑3‑O‑甲基‑a‑L‑核‑已吡喃糖基)氧]‑3,5,9,11,13,15‑六甲基‑7,16‑二氧‑2‑氮杂双环[11.2.1]十六烷‑1‑烯‑8‑酮。
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