[发明专利]一种SOI平面波导布拉格光栅及制作方法在审

专利信息
申请号: 201810719625.1 申请日: 2018-07-02
公开(公告)号: CN108919414A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 熊迪;谭满清;郭文涛;焦健;郭小峰 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;G02B6/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周天宇
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种高端面反射率窄反射带宽的SOI平面波导布拉格光栅及其制作方法,该光栅能有效进行窄带滤波,减小背面反射,实现高的端面反射率,提高波导与光纤的耦合效率;同时,能够实现SOI波导光栅制作过程中高精度的对准以及制备,保证光栅在脊型波导内脊表面的均匀分布,保证光栅图形与脊型边缘的垂直特性,从而保证SOI波导光栅的性能。
搜索关键词: 光栅 布拉格光栅 平面波导 端面反射率 窄反射带宽 垂直特性 光栅图形 光栅制作 脊型波导 窄带滤波 耦合效率 反射率 高端面 保证 波导 脊型 减小 内脊 反射 制备 制作 背面 对准 光纤
【主权项】:
1.一种SOI平面波导布拉格光栅结构,其特征在于,包括:SOI片;脊型波导结构(4),其形成在所述SOI片上表面的中间位置,其中,所述脊型波导结构(4)包括光栅区域(8)和在两端与所述光栅区域(8)光滑连接的波导区域(9),所述光栅区域(8)为直条脊型,所述波导区域(9)为弯曲脊型;布拉格光栅结构(5),其形成在所述脊型波导结构(4)的内脊表面;SOI平面波导光栅(7),其形成在所述SOI晶片上表面未覆盖有脊型波导结构(4)的位置。
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