[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 201810721204.2 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN109212903B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 铃木贵大;土门大将;小竹正晃;增永惠一;渡边聪 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1] |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，包括：(A)成分，即，包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及，(B)成分，即，包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物，[化学式1]![]()
式中，Rfa及Rfb各自独立地为碳原子数为1～4的氟烷基；RXa为氢原子或酸不稳定基团；Ra及Rb各自独立地为氢原子、或为可包含杂原子的碳原子数为1～10的一价烃基；Ra及Rb也可以彼此键合，并与它们所键合的碳原子一起形成环；A1a为醚键或硫醚键；L1a为单键、或为可包含杂原子的碳原子数为1～20的二价连接基团；＊表示结合键，[化学式2]![]()
式中，v为0或1，w为0～2的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基及三氟甲基中的任一种；R11各自独立地为氢原子、卤素原子、可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为2～8的酰氧基、可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为1～6的烷基、或可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为1～6的烷氧基；A1为单键、或为直链状、支链状或环状的碳原子数为1～10的亚烷基，碳‑碳键之间可介入有醚键；a为满足0≤a≤5+2w‑b的整数；b为1～3的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信越化学工业株式会社，未经信越化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810721204.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：硬掩模用组合物及图案形成方法
- 下一篇：一种用于晒版机的预涂感光版观测装置
