[发明专利]一种用于薄膜太阳电池的表面陷光阵列结构及制备方法

摘要

本发明公开了一种用于薄膜太阳电池的表面陷光阵列结构及制备方法，所述陷光阵列结构是周期排列的准半椭球状凹坑结构，周期尺寸在1～100微米之间，所述陷光阵列结构的衬底材料为玻璃基片。所述陷光阵列结构的陷光界面约50％的区域满足光的全反射条件。表面陷光阵列结构的制备方法是：选用平板玻璃作为衬底，采用RIE定向干法刻蚀与HF湿法各向同性腐蚀相结合的工艺加工方法制备而成。以该陷光结构玻璃基片为衬底材料沉积薄膜电池，可以有效地提高电池的光能俘获能力，同时具有宽谱段的光子调控能力和准全向特征，提升电池全天光子俘获，从而显著增加薄膜太阳电池的光电转换效率，因此在薄膜太阳电池领域有着良好的应用前景。

主权项

1.一种用于薄膜太阳电池的表面陷光阵列结构，其特征在于所述陷光阵列结构是周期排列的准半椭球状凹坑结构，周期尺寸在1～100微米之间，所述陷光阵列结构的衬底材料为玻璃基片。