[发明专利]氧化铟-氧化锌类（IZO）溅射靶及其制造方法在审
| 申请号： | 201810723839.6 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108930015A | 公开（公告）日： | 2018-12-04 |
| 发明（设计）人： | 挂野崇 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种氧化铟‑氧化锌类(IZO)溅射靶及其制造方法。一种溅射靶，其为包含In、Zn、O的溅射靶，其特征在于，Zn和In的原子比满足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且该靶的溅射面内的体电阻率的标准偏差为1.0mΩ·cm以下。本发明提供一种烧结体的翘曲小、并且抑制了由用于减小翘曲的磨削造成的体电阻率的面内偏差的氧化铟‑氧化锌类氧化物(IZO)烧结体靶的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶 氧化锌类 氧化铟 体电阻率 翘曲 制造 面内偏差 烧结体靶 溅射面 烧结体 原子比 氧化物 减小 磨削 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其为包含In、Zn、O的溅射靶，其特征在于，Zn和In的原子比满足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且该靶的溅射面内的体电阻率的标准偏差为1.0mΩ·cm以下。
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