[发明专利]一种基于双发射VLIW的统一架构渲染着色器有效
| 申请号： | 201810725246.3 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN109087381B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 蒋林;刘鹏;山蕊;田汝佳;杨博文;韩孟桥;耿玉荣 | 申请（专利权）人： | 西安邮电大学 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G06F9/38 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 张晓博 |
| 地址： | 710121 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于图形处理芯片设计技术领域，公开了一种基于双发射VLIW的统一架构渲染着色器，设置有：参数描述符电路对输入的命令流信息进行解析命令处理；着色状态控制电路根据待渲染多边形的渲染信息来确定统一着色器的不同流水线阶段处理内容；双发射VLIW处理器电路根据当前状态及配置参数进行相应的图形任务处理或通用计算处理；纹素滤波电路在VLIW处理器电路的配置下对从纹理存储器中读取的纹理纹素值进行双线性插值或三线性插值滤波处理。本发明可以很好的降低硬件设计复杂度和减少传统架构中数据在顶点着色器和像素着色器之间的转换时间；该统一着色器结构简洁、硬件面积小、实时性较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 发射 vliw 统一 架构 渲染 着色 | ||
【主权项】：
1.一种基于双发射VLIW的统一架构渲染着色器，其特征在于，所述基于双发射VLIW的统一架构渲染着色器包括：参数描述符电路U1，对输入的命令流信息进行解析命令处理；着色状态控制电路U0，根据命令信息中操作码信息确定统一着色器的处理任务，继而对参数描述符电路的数据及VLIW处理器电路的处理任务进行更新；双发射VLIW处理器电路U2，根据当前状态及配置参数进行相应的图形任务处理或通用计算处理；纹素滤波电路U3，在VLIW处理器电路的配置下对从纹理存储器中读取的纹理纹素值进行双线性插值或三线性插值滤波处理。
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