[发明专利]一种异质外延薄膜结构在审

专利信息
申请号: 201810727030.0 申请日: 2018-07-05
公开(公告)号: CN108914204A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 宁平凡;牛萍娟;刘宏伟;张建新;李玉强;梁立君 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B25/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种外延薄膜结构。所述外延薄膜结构包括:一基底,所述基底为具有一外延生长面的氮化镓基底;一外延层,所述外延层为具有介电可调性能的氧化物薄膜,该薄膜在所述基底的外延生长面上生长;以及一缓冲层,所述缓冲层设置于该基底与外延层之间,所述缓冲层由两层氧化物薄膜构成。
搜索关键词: 基底 缓冲层 外延层 外延薄膜 外延生长 薄膜 异质外延薄膜 两层氧化物 氧化物薄膜 氮化镓基 可调性 介电 生长
【主权项】:
1.一种外延薄膜结构,其包括:一基底,所述基底为具有一外延生长面的氮化镓基底;一外延层,所述外延层为具有介电可调性能的金属氧化物薄膜,该薄膜在所述基底的外延生长面上生长;一缓冲层,所述缓冲层设置于该基底与外延层之间,所述缓冲层由两层氧化物薄膜构成。
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