[发明专利]基板处理装置及元件制造方法有效
申请号: | 201810732338.4 | 申请日: | 2016-02-26 |
公开(公告)号: | CN108919610B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王天尧;汤在彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,具备:基板搬送机构,一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置,具有多个描绘模块,沿着将投射于前述基板的描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围扫描于前述宽度方向而得到的描绘线将既定图案描绘于前述基板上,以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式,将彼此在前述宽度方向相邻的前述描绘线于前述搬送方向相隔既定间隔配置;基板速度检测装置,检测出前述基板的搬送速度的变化;以及倾斜调整机构,用以根据前述基板的搬送速度的变化调整前述描绘线相对于前述基板宽度方向的倾斜。
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