[发明专利]抛光垫及研磨设备在审
| 申请号： | 201810738877.9 | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN108655948A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;吴晓茜;张季平;车丽媛 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 张凯 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 抛光垫，包括：垫片本体，具有研磨面；至少两个相互套设的圈形槽，设置在研磨面上；以及至少一条线形沟槽，设置在研磨面上，穿过每个圈形槽且与被穿过的圈形槽相通，其中，线形沟槽的深度是变化的，深度随着距离最内圈的圈形槽的中心处距离的增加而增加。一方面，在垫片本体的研磨面上设置有相互套设的圈形槽，其能够封住进入抛光垫的抛光液使得抛光液保持适宜的驻留时间，起到抛光的效果。另一方面，穿过每个圈形槽且与被穿过的圈形槽相通的线形沟槽，其能够将完成抛光过程的抛光液从圈形槽中导出，特别是因为线形槽的深度随着距离最内圈的圈形槽的中心距离的增加而增加，在该斜面的作用下，抛光液可以依靠重力而自然排出。 | ||
| 搜索关键词： | 圈形槽 抛光液 线形沟槽 研磨 抛光垫 穿过 垫片本体 内圈 相通 抛光过程 研磨设备 中心距离 驻留 线形槽 研磨面 中心处 抛光 导出 排出 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，其特征在于，包括：垫片本体，具有研磨面；至少两个相互套设的圈形槽，设置在所述研磨面上；以及至少一条线形沟槽，设置在所述研磨面上，穿过每个所述圈形槽且与被穿过的所述圈形槽相通，其中，所述线形沟槽的深度是变化的，深度随着距离最内圈的圈形槽的中心距离的增加而增加。
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