[发明专利]一种气动装置和光刻装置有效
| 申请号： | 201810739178.6 | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN110687753B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 赵文波;胡小林;张丽 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种气动装置和光刻装置，其中，该气动装置包括气控块和气控通路，气控块内部设置有气体切换腔室、柔性薄片、大气管路、第一真空支路和第二真空支路，气控通路的两端分别与气体切换腔室和待控对象连通；气体切换腔室密封设置，柔性薄片设置于气体切换腔室内，用于将气体切换腔室分为相互隔离的第一隔离区和第二隔离区；当第一真空支路抽真空时，气控通路将第一真空支路输入的真空导向待控对象，实现吸附；当第二真空支路抽真空时，气控通路将大气管路输入的大气导向待控对象，实现释放。本发明实现了减小气动装置的体积，使气动装置可以设置于光刻设备中离硅片很近的位置，从而减小了硅片交接时间，提高了曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气动 装置 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种气动装置，其特征在于，包括气控块和气控通路，所述气控块内部设置有气体切换腔室、柔性薄片、大气管路、第一真空支路和第二真空支路，所述气控通路的两端分别与所述气体切换腔室和待控对象连通；/n所述气体切换腔室密封设置，所述柔性薄片设置于所述气体切换腔室内，用于将所述气体切换腔室分为相互隔离的第一隔离区和第二隔离区，所述第一隔离区始终与所述第一真空支路、气控通路连通，所述第二隔离区始终与所述第二真空支路连通；/n所述大气管路的第一端连通环境大气，第二端设置于所述第一隔离区内，当所述第一真空支路抽真空时，所述柔性薄片向所述第一隔离区方向发生变形，并密封所述大气管路的第二端，所述气控通路将所述第一真空支路输入的真空导向所述待控对象；/n当所述第二真空支路抽真空时，所述柔性薄片向所述第二隔离区方向发生变形，所述大气管路与所述气控通路连通，所述气控通路将所述大气管路输入的大气导向所述待控对象。/n
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