[发明专利]一种氮化渗铬层、其制备方法及应用有效
| 申请号： | 201810758484.4 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN110714182B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张学东;姜欣;蒲吉斌;王立平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C12/00 | 分类号： | C23C12/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王茹;王锋 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种氮化渗铬层、其制备方法及应用。所述的制备方法包括：采用辉光离子氮化技术，以高纯NH |
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| 搜索关键词： | 一种 氮化 渗铬层 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种氮化渗铬层的制备方法，其特征在于包括：/n采用辉光离子氮化技术，以NH
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