[发明专利]一种金金热压键合制备高反射膜光学腔的方法有效
| 申请号： | 201810762925.8 | 申请日： | 2018-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN110715681B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 徐现刚;王荣堃 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | G01D21/02 | 分类号： | G01D21/02;B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人： | 陈桂玲 |
| 地址： | 250199 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用金金热压键合技术制备高反射膜光学腔的方法。该方法包括：在硼硅玻璃上表面溅射Ni/Au或Cr/Au薄膜作为硼硅玻璃刻蚀的掩膜并制作金属掩膜图形，刻蚀形成腐蚀坑；在硅片上依次溅射钛薄膜、铂薄膜和金薄膜；将硼硅玻璃上表面和硅片溅射金属薄膜的面贴合，利用热压键合技术进行键合；减薄，使硅片形成为硅薄膜。本发明溅射的合金在热压键合过程中既可以在键合区域起到封闭光学腔的作用，又可以在未键合区域起到提高反射率的作用，有效又简洁的满足了高反射膜的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热压 制备 反射 光学 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金金热压键合制备高反射膜光学腔的方法，包括步骤：/n(1)提供硼硅玻璃，在所述硼硅玻璃上表面溅射Ni/Au或Cr/Au薄膜作为硼硅玻璃刻蚀的掩膜，在金属掩膜表面通过光刻工艺制作光刻胶掩膜后利用剥离工艺或金属湿法腐蚀的方法在硼硅玻璃表面形成金属掩膜图形；然后进行硼硅玻璃的湿法刻蚀，形成腐蚀坑；/n(2)提供硅片，在硅片上依次溅射钛薄膜、铂薄膜和金薄膜；/n(3)将步骤(1)制备的硼硅玻璃上表面和步骤(2)的硅片溅射金属薄膜的面贴合，利用热压键合技术进行键合；/n(4)将步骤(3)键合后的样品硅片的一面进行机械研磨减薄，使硅片形成为硅薄膜。/n
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