[发明专利]一种化学镀钯液、其制备方法和其使用方法以及应用有效
| 申请号： | 201810764025.7 | 申请日： | 2018-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN108823554B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 苏星宇;黄明起;夏建文;刘强;陈元甫 | 申请（专利权）人： | 深圳市化讯半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/44 | 分类号： | C23C18/44 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学镀钯液、其制备方法和其使用方法以及应用，以化学镀钯液的总体积计，包括如下组分：钯离子0.5‑5g/L；还原剂1‑20g/L；其中，所述钯离子由硫酸四氨钯提供。本发明提供的化学镀钯液中的硫酸四氨钯为固体可溶性钯盐，钯以四氨合钯络合物形成存在，常温下以固体形式稳定保存，易于存储运输；并且与硫酸钯等其他钯盐相比，硫酸四氨钯具有较强的稳定性，解决了钯容易析出的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 镀钯液 制备 方法 使用方法 以及 应用 | ||
【主权项】：
1.一种化学镀钯液，其特征在于，以化学镀钯液的总体积计，包括如下组分：钯离子 0.5‑5g/L；还原剂 1‑20g/L；其中，所述钯离子由硫酸四氨钯提供。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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