[发明专利]一种超薄铜箔制备后的处理工艺在审
申请号: | 201810768903.2 | 申请日: | 2018-07-13 |
公开(公告)号: | CN108930036A | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 殷勇;余超 | 申请(专利权)人: | 铜陵市华创新材料有限公司 |
主分类号: | C23C28/02 | 分类号: | C23C28/02;C23C22/73 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 244000 安徽省铜陵*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种超薄铜箔制备后的处理工艺,涉及铜箔制备技术领域,该超薄铜箔制备后的处理工艺,包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度。本发明在铜箔毛面电镀一层瘤状的铜颗粒,不仅能增加铜箔毛面的表面积,还能与绝缘树脂基板材料产生机械紧固作用,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象。 | ||
搜索关键词: | 铜箔 粗化层 超薄铜箔 处理工艺 固化处理 制备 处理层 粗糙度 瘤状 毛面 硅烷偶联剂处理 致密 绝缘树脂基板 制备技术领域 镀锌处理 钝化处理 烘干处理 机械紧固 绝缘基板 颗粒间隙 铜箔表面 金属铜 铜颗粒 电镀 沉积 分层 分切 粘结 | ||
【主权项】:
1.一种超薄铜箔制备后的处理工艺,其特征在于:包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度;S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力;S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限;S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高剥离强度。S5、铜箔烘干处理:在不低于100℃下对铜箔进行烘干;S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并包装好。
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