[发明专利]光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品有效
| 申请号： | 201810770939.4 | 申请日： | 2018-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN110712452B | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;朱军;张巍巍;张宝利;李妍 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/45 | 分类号： | B42D25/45;B42D25/328;G09F3/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陈潇潇;肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品，属于光学防伪领域。该光学防伪元件包括：透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。藉此，实现了光学防伪元件在被从两侧进行观察时均能同时呈现图像效果和光学变色效果，并且透射观察时具有镂空效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 及其 制备 方法 产品 | ||
【主权项】：
1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：/n透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及/n干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。/n
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