[发明专利]一种基于3D堆叠式多隧道结的磁性忆阻器在审

专利信息
申请号: 201810776305.X 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN109065706A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 游龙;洪正敏;曾逸 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/02;B82Y40/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于3D堆叠式多隧道结的磁性忆阻器,包括n层磁性层和(n‑1)层绝缘层,磁性层和绝缘层交替设置,其中,n为大于等于2的整数,一层绝缘层及其上下层磁性层构成一个隧道结,n层磁性层和(n‑1)层绝缘层构成(n‑1)个隧道结。本发明提出的基于多层磁性薄膜的多值存储器,可以满足存储技术中高密度、多值存储、小尺寸、轻薄化和低功耗的要求。本发明的结构是一种磁性层与绝缘层交替叠加的磁性薄膜结构,可以看成多个磁性隧道结串联而成,本发明采用的是自旋流的自旋力矩转移效应翻转,其特点是功耗更低,无需外加磁场,且大小可以通过电流控制。
搜索关键词: 绝缘层 磁性层 隧道结 磁性薄膜 堆叠式 忆阻器 自旋 磁性隧道结 多值存储器 存储技术 电流控制 多值存储 交替叠加 交替设置 外加磁场 低功耗 轻薄化 上下层 翻转 多层 功耗 串联
【主权项】:
1.一种基于3D堆叠式多隧道结的磁性忆阻器,其特征在于,包括n层磁性层和(n‑1)层绝缘层,磁性层和绝缘层交替设置,其中,n为大于等于2的整数,一层绝缘层及其上下层磁性层构成一个隧道结,n层磁性层和(n‑1)层绝缘层构成(n‑1)个隧道结。
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