[发明专利]一种光罩的缺陷修复方法及光罩在审
| 申请号： | 201810779833.0 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN110727170A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 林大伟;张健澄;吴苇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72;G03F1/38 |
| 代理公司： | 11336 北京市磐华律师事务所 | 代理人： | 高伟;翟海青 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩，所述方法包括：提供待修复光罩，所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案，所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案；在所述待修复图案的外侧形成透光的若干散射条，以对所述待修复图案进行光补偿。本发明的方法过程更加容易控制，降低产生二次损伤缺陷的风险，可以提高修复合格率，降低修复循环次数。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 修复图案 修复 透光图案 遮光层 二次损伤 缺陷修复 光补偿 散射条 透光 合格率 | ||
【主权项】：
1.一种光罩的缺陷修复方法，其特征在于，包括：/n提供待修复光罩，所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案，所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案；/n在所述待修复图案的外侧形成透光的若干散射条，以对所述待修复图案进行光补偿。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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