[发明专利]功率器件及其封装方法在审
申请号: | 201810780535.3 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN109037175A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 郑琼如 | 申请(专利权)人: | 盛世瑶兰(深圳)科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/373 | 分类号: | H01L23/373;H01L23/367;H01L29/45 |
代理公司: | 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419 | 代理人: | 曹明兰 |
地址: | 518000 广东省深圳市罗湖区桂*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种功率器件,其包括基板及设置在所述基板上的芯片,所述芯片包括衬底和形成在所述衬底的导热组件,所述导热组件包括多个间隔形成在所述衬底下表面的沟槽、形成在所述沟槽内的第一金属层、形成在所述衬底上与所述基板相连的第二金属层,所述沟槽的深度小于所述衬底的厚度,所述第一金属层和所述第二金属层均与所述衬底形成欧姆接触。本发明还提供功率器件的封装方法,增强芯片的散热效率和驱动性能,缩小芯片封装后的尺寸,降低了制造成本。 | ||
搜索关键词: | 衬底 功率器件 基板 第二金属层 第一金属层 导热组件 芯片 封装 衬底下表面 欧姆接触 驱动性能 散热效率 芯片封装 制造成本 | ||
【主权项】:
1.一种功率器件,其特征在于:其包括基板及设置在所述基板上的芯片,所述芯片包括衬底和形成在所述衬底的导热组件,所述导热组件包括多个间隔形成在所述衬底下表面的沟槽、形成在所述沟槽内的第一金属层、形成在所述衬底上与所述基板相连的第二金属层,所述沟槽的深度小于所述衬底的厚度,所述第一金属层和所述第二金属层均与所述衬底形成欧姆接触。
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