[发明专利]功率器件及其封装方法在审

专利信息
申请号: 201810780535.3 申请日: 2018-07-17
公开(公告)号: CN109037175A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 郑琼如 申请(专利权)人: 盛世瑶兰(深圳)科技有限公司
主分类号: H01L23/373 分类号: H01L23/373;H01L23/367;H01L29/45
代理公司: 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419 代理人: 曹明兰
地址: 518000 广东省深圳市罗湖区桂*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种功率器件,其包括基板及设置在所述基板上的芯片,所述芯片包括衬底和形成在所述衬底的导热组件,所述导热组件包括多个间隔形成在所述衬底下表面的沟槽、形成在所述沟槽内的第一金属层、形成在所述衬底上与所述基板相连的第二金属层,所述沟槽的深度小于所述衬底的厚度,所述第一金属层和所述第二金属层均与所述衬底形成欧姆接触。本发明还提供功率器件的封装方法,增强芯片的散热效率和驱动性能,缩小芯片封装后的尺寸,降低了制造成本。
搜索关键词: 衬底 功率器件 基板 第二金属层 第一金属层 导热组件 芯片 封装 衬底下表面 欧姆接触 驱动性能 散热效率 芯片封装 制造成本
【主权项】:
1.一种功率器件,其特征在于:其包括基板及设置在所述基板上的芯片,所述芯片包括衬底和形成在所述衬底的导热组件,所述导热组件包括多个间隔形成在所述衬底下表面的沟槽、形成在所述沟槽内的第一金属层、形成在所述衬底上与所述基板相连的第二金属层,所述沟槽的深度小于所述衬底的厚度,所述第一金属层和所述第二金属层均与所述衬底形成欧姆接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛世瑶兰(深圳)科技有限公司,未经盛世瑶兰(深圳)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810780535.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top